Crecimiento CVD de capas de grafeno 2D y espumas de grafeno 3D

Datos de contacto

Entidad: Universidad Politécnica de Madrid
Persona responsable: Fernando Calle
Email: fernando.calle@upm.es
Web de la entidad: http://www.isomgraphene.es
Razón social: ETSI Telecomunicación, Avda. Complutense 30, 28040 Madrid
Teléfono de contacto: +34 913 36 68 32

Descripción del producto/tecnología que integra grafeno

Naturaleza: Producto/Tecnología con grafeno en desarrollo
Nombre del producto/tecnologia: Crecimiento CVD de capas de grafeno 2D y espumas de grafeno 3D
Descripción:

Producción de grafeno en obleas de hasta hasta 4 pulgadas

Equipo: CVD de grafeno y CNT activado por plasma, 4”, AIXTRON Black Magic Pro

Ambiente: Sala limpia, aunque no es necesario para fabricación estándar

Fuentes: metano o acetileno

Sustratos: películas o esponjas de Cu o Ni. También es posible utilizar sustratos arbitrarios utilizando trasnferencia automática de grafeno (ver tecnología por UPM)

WordPress › Error

Ha habido un error crítico en esta web.

Aprende más sobre el diagnóstico de WordPress.